中国环氧树脂产能占全球高过45%，包括外企在中国的生产工厂如陶氏化学，韩国国都，台湾长春，台湾南亚塑胶，宏昌化工，香港建滔化学；也有本土优秀企业如三木化工，公司，大连齐化化工有限责任公司，无锡迪爱生环氧有限公司等。

宏昌电子公司为中国第一家有能力生产高端电子级环氧树脂的专业生产厂商，主要产品为电子级环氧树脂。公司产品可应用于电子行业的覆铜板、发光二极管、回扫变压器、电容器等电子零件，以及环氧模塑料、航天及军事用途的特殊复合材料、胶粘剂与工艺品等行业。生产能力已达7.3万吨/年，其中液态环氧树脂产能为5.5万吨/年。公司的高端电子级环氧树脂可完全替代进口电子级环氧树脂，填补中国在高端电子级环氧树脂的空白。环氧树脂产品已有符合覆铜板行业无铅制程的环氧树脂、无卤阻燃环氧树脂，应用于LED封装的环氧树脂，风力发电机叶片用的环氧树脂等，都是属于符合绿色环保和节能产业方向的产品。

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光刻胶

1、光刻胶应用种类分布

光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一，在大规模集成电路的制造过程中，光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺，占芯片制造时间的40%~50%，光刻胶是光刻工艺得以实现选择性刻蚀的关键材料。光刻胶的应用范围主要有PCB板，LCD，LED和半导体，前面三种技术要求相对较低，但我国企业仍然没有实现完全自给。而半导体光刻胶技术壁垒较高、市场高度集中，几乎被日美企业垄断，生产商主要有日本JSR、信越化学工业、日本TOK、陶氏化学等。

光刻胶的波长与集成电路线宽相适应，由紫外宽谱向g线（436nm）→i线（365nm）→KrF（248nm）→ArF（193nm）→F2（157nm）的方向转移，并通过分辨率增强技术不断提升光刻胶的分辨率水平。目前,半导体市场上主要使用的光刻胶包括G线、I线、KrF、ArF四类光刻胶,其中G线和I线光刻胶是市场上使用量最大的光刻胶，在半导体制程不断缩小的情况下仍有需求。ArF浸没式的制程节点已至22nm，是目前最为先进的技术。日美企业基本垄断了g/i线光刻胶、KrF/ArF光刻胶市场。g线，i线，KrF，ArF四种主要的光刻胶，前面两种我国已经能量产，KrF已经通过认证，ArF光刻胶将在2020年研发完成并完成认证。中国本土光刻胶企业的发展还有赖于本土集成电路制造企业的壮大，而目前我国还不是全球集成电路制作中心。

2、全球主要厂商

光刻胶成分复杂，主要成分有高分子树脂、色浆、单体、感光引发剂、溶剂以及添加剂。涉及技术复杂，需从低聚物结构设计和筛选、合成工艺的确定和优化、活性单体的筛选和控制、色浆细度控制和稳定、产品配方设计和优化、产品生产工艺优化和稳定、最终使用条件匹配和宽容度调整等方面进行调整。作为生产光刻胶最重要的色浆，至今依赖日本。而核心技术至今被TOK、JSR、住友化学、信越化学等日本企业所垄断。

过去我国对发展集成电路产业的规划布局不合理、不完整，重视生产加工环节的投资，而忽视了重要的基础材料、装备与应用研究。所以现在呈现的状态是整个产业中间加工环节强，前后两端弱。我国在2000年左右才开始着手光刻胶的研发，目前整体还处于起步阶段，工艺技术水平与国外企业有很大的差距，尖端材料及设备仍依赖进口。例如，京东方目前已建立17个面板显示生产基地，其中有16个已经投产，但京东方用于高端面板的光刻胶仍然由国外企业提供。目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等国家，包括陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学等等，中国公司在光刻胶领域也缺少核心技术。

3、国产化进程及主要厂商

与国外先进光刻胶技术相比，国内产品落后4代，目前主要集中在PCB光刻胶、TN/STN-LCD 光刻胶等中低端产品。PCB领域已初步实现进口替代，LCD 和半导体用光刻胶等高端产品仍需大量进口，正处于由中低端向中高端过渡阶段。

PCB光刻胶：自2002年起，我国逐渐从 PCB 光刻胶进口大国转变为PCB 出口大国。2015年我国PCB光刻胶产值达12.6亿美元，占全球市场份额高达70%。在PCB领域，干膜已被外资把控，油墨部分已有国产替代，进口替代率达到46%，容大感光、等可以生产一些彩色光刻胶，在该领域进行布局。晶瑞股份在TP用光刻胶方面市场占有率较大，并已经向TFT array阵列用光刻胶布局，等公司是滤光片用彩色和黑色光刻胶的进口替代参与者。

半导体光刻胶：国内半导体光刻胶市场基本被国外垄断，日美企业垄断 g/i 线光刻胶、KrF/ArF 光刻胶市场，生产商包括 JSR、TOK、陶氏化学等。国内企业持续加大研发投入和创新，如苏州瑞红、北京科华等，有望持续引领半导体光刻胶国产化进程。分立器件用光刻胶已经完全实现进口替代，集成电路用光刻胶已经实现了部分技术突破。国家高度重视，晶瑞股份和北京科华(股份有限公司。公司成立于1965年，是国内液压基础件研发生产基地和贵州省重点支持的出口单位，是国家级高新技术企业。1996年，公司将民品剥离重组，在上海证券交易所成功挂牌上市，成为中国液气密行业首家上市公司。2006年—2009年，根据集团公司要求，实施了借助力源液压上市公司为平台，整合重组集团公司内部资源，搭建了中航重机股份有限公司。公司是国内高压柱塞泵/马达产量最大、实力最强的研制生产企业，产品广泛应用于工程机械、农业机械等各领域。

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光刻机

1、光刻机是芯片制造的核心设备

光刻机是芯片制造的核心设备之一，广义的光刻机包括用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机、用于LED制造领域的投影光刻机。光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。用于生产芯片的光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上形成图形，目前是中国在半导体设备制造上最大的短板。